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電子級三甲基氯硅烷工藝裝置

電子級三甲基氯硅烷工藝裝置主要由溶解釜、加料釜、反應釜、接收罐、堿液釜和渣漿釜等組成。其主要儀表及管閥件均采用高性能產品，裝置非標采用耐腐蝕材質。PLC 系統采集確保操作人員安全。裝置的整體水平要求自動化程度高，數據精確度及重復性好，安全可靠并能長周期穩定運行

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更新日期
2024-06-21

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加氫微反裝置

加氫微反裝置廣泛適用于流動合成反應，可持續滿足您需求的連續流動化學系統，靈活，精確，高生產力。

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更新日期
2024-06-20

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光熱微反裝置

巖征儀器光熱微反裝置又叫做高壓微反裝置，加氫微反裝置。可實現汽液固自動地從汽液物料輸入到在線取樣輸出，進入色譜/質譜或紅外光譜儀全過程的記錄、分析。裝置包含多路氣體，多路VOC液體，以及在線氣和液ppm級配氣系統、可視冷凝、分離器和自動放液系統組成。

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2024-06-20

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微型反應裝置

巖征儀器微型反應裝置設有遠程控制功能，一臺電腦即可隨時監控設備反應情況，數據可導出分析。

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2024-06-20

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微反裝置系列

微反裝置系列巖征微型平行反應釜在YZQR系列平臺上開發而成，單個高壓釜腔體內可放置多組5ml-20ml微反應器，可用作基本的多樣品高壓篩選，設計緊湊，簡單易用。產品標配加熱控制功能,也可直接放置于加熱攪拌器或油浴循環槽中，巖征微型平行反應釜具有低成本，低能耗和高產出等系列特性，使其成為性價比*的大規模化學篩選系統。

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更新日期
2024-10-23

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微反裝置

微反裝置適用于實驗室工作臺面，體積小，操作簡便，功能強大，控溫準，升溫快，較高工作壓力：10mpa；較高工作溫度：300攝氏度

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更新日期
2024-06-20

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生產廠家

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